ASML之表，�一�光刻机相识下：3D直写光刻

光刻技术类型示�图

先进激光直写光刻技术

直写光刻与投影光刻技术是当�产业中分工明确的两类光刻技术，投影光刻拥有更高的线宽分辨率�精度和出产效能的特点。固然直写光刻还�能满足器件大规模造作的需�，但在电路�行业，激光直写代替传统�光机是明确的趋�，实现无掩模光刻一�是产业钻�的梦想指标，�削�昂贵掩模版的支出，��新�开�效能，满足幼批�多样化出产需�。此表，直写光刻由于其数字化的属性，拥有更高的矫�性和宽泛适应性？煽⒋葱碌钠毓夥绞，作为数字化微纳加工的基础性技术，从而有望�为�导体�光电�有关产业中工艺迭代�级�新产�创新的关键性技术。

在拥有衬底翘曲�基片�形的光刻利用领域，直写光刻的自适应调整能力，使之拥有制�率高�一致性好的利益。如FanOut�COF等先进�装模�的�展，�装光刻技术必�拥有更幼的线宽�更大的幅��更好的图形对准套刻适应能力。

在微纳光电�新兴领域，ALoT的�展必�大�光电传感器件的创新研�。3Ｄ光刻与微纳造作是光电�产�创新的基石性技术，拥有多多的产业利用价值，如3D感知�加强现实显示�光传感器件（如TOF）�超薄���立体显示�新型光学膜等。微纳光�器件�步在智能手机�加强现实AR�车载领域利用。与集�电路图形分歧，微纳光�传感器件�求更高的地�分列精度�纵��型精度�结构�摹拥有密集陆续曲��摹的特点。因而，新型3D直写光刻技术，实显熵光写入剂�与地��摹精确匹�，是造备新型光电�传感器件级微纳结构�摹的创新技术蹊径。

3D直写光刻技术进展

尊龙官方官网通过产学研�作，一�致力于推动3D直写光刻技术开�与利用，解决了多项行业挑战：

1

大�积微纳结构�摹的数字设计，海�数�处置与先进算法，�达百Tb�级数��

2

海�数�数�压缩传输�高快率光电转�技术

3

数字光场形�三维�摹的�光模�与机�，3D邻近效应校对技术

4

微纳结构�摹精确光刻工艺和�行模�

5

大型活动平�与光机系统的造作工艺�纳米精度节造技术

当�已�获得了3D光刻工艺�破，实现了光刻胶3D�摹�节造备。SEM了局举例如下：

芯片光掩模

超薄�涅尔���镜

微�镜阵列

涡旋结构

ToF匀光器件

结构光DOE

电�纸微�

�阻结构

微�控

MEMS

微棱锥

立体��结构

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